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HMDS工業烤箱 HMDS係列

產品型號:HMDS係列

產品名稱:HMDS工業烤箱 HMDS係列

產品單位:台

產品品牌:HASUC

產品備注:烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在矽片、基片表麵均勻塗布一層HMDS,降低了HMDS處理後的矽片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與矽片的黏附性。

產品描述:

HMDS工業烤箱特點:
在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,塗膠質量直接影響到光刻的質量,塗膠工藝也顯得尤為重要。光刻塗膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而矽片表麵的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和矽片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和矽片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二矽氮烷)可以很好地改善這種狀況

HMDS工業烤箱特點:
1、HMDS工業烤箱機外殼采用不鏽鋼SUS304材質製造,內膽為不鏽鋼316L材料製成;加熱器均勻分布在內膽外壁四周,內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。
2、箱門閉合鬆緊能調節,整體成型的矽橡膠門封圈,確保箱內高真空度。
3、微電腦智能控溫儀,具有設定,測定溫度雙數字顯示和PID自整定功能,控溫精確,可靠。
4、智能化觸摸屏控製係統配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據不同製程條件改變程序,溫度,真空度及每一程序時間。
5、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。
6、整個係統采用優質材料製造,無發塵材料,適用100 級光刻間淨化環境。

HMDS工業烤箱技術參數:
電源電壓:AC 380V±10%/50Hz±2%
輸入功率:4000W
控溫範圍:室溫+10℃-250℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:±0.5℃
達到真空度:133Pa
容積:210L
工作室尺寸(mm):560*640*600
外形尺寸(mm):720*820*1050
載物托架:3塊
時間單位:分鍾
選配件
真空泵:德國品牌,萊寶“DC”雙極係列旋片式油泵,極限真空高,噪音低,運行穩定。連接管:不鏽鋼波紋管,完全密封將真空泵與烘箱連接。

HMDS工業烤箱的必要性:
    在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,塗膠質量直接影響到光刻的質量,塗膠工藝也顯得尤為重要。光刻塗膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而矽片表麵的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和矽片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和矽片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二矽氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS塗到矽片表麵後,經烘箱加溫可反應生成以矽氧烷為主體的化合物。它成功地將矽片表麵由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

HMDS工業烤箱的原理:
       HMDS烘箱通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在矽片、基片表麵均勻塗布一層HMDS,降低了HMDS處理後的矽片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與矽片的黏附性。

HMDS烘箱的一般工作流程:
         先確定HMDS烘箱工作溫度。典型的預處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內真牢度達到某一高真空度後,開始充人氮氣,充到達到某低真空度後,冉次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數後,開始保持一段時間,使矽片充分受熱,減少矽片表麵的水分。然後再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達設定時間後,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使矽片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間後,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業過程。HMDS與矽片反應機理如圖:先加熱到100℃-200℃,去除矽片表麵的水分,然後HMDS與表麵的OH一反應,在矽片表而生成矽醚,消除氫鍵作,從而使極性表麵變成非極性表麵。整個反應持續到空間位阻(三甲基矽烷基較大)阻止其進一步反應。

尾氣排放等:多餘的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。

 

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